作為工程師和開發(fā)人員，我們的工作就是找到一個將所有元件組合在一起的最佳方法。不管是對于摩天大樓、還是集成電路，內(nèi)部工程結(jié)構(gòu)都是決定是否能夠運轉(zhuǎn)良好的關(guān)鍵之一。但說回來，又有誰不曾幻想做個“破壞王”，把東西都拆開來一探究竟呢？我們最初的與工程設(shè)計有關(guān)的記憶大部分都來自小時候把看起來復(fù)雜——甚至是昂貴——的東西拆得七零八落。
既然如此，我們就打算看一看DLP NIRscan Nano評估模塊（EVM）的內(nèi)部構(gòu)造，我們將用老辦法——拆開它。
需要注意的是，任何對光引擎的拆解都會使NIRscan Nano EVM的保修失效。另外，去掉光引擎上的罩子會使灰塵和污垢聚集在光學(xué)器件上，從而影響到系統(tǒng)性能。此外，去掉上面的罩子會移動光學(xué)器件、狹縫和探測器，導(dǎo)致這些元件錯位，從而需要廠家重新進行對準和校準。而一旦拆除狹縫，則需要把InGaAs探測器和DLP2010NIR返廠進行系統(tǒng)對準與校準。
總之一句話，這事兒不能在家里嘗試。
我們先來快速瀏覽一下�；贒LP的分光計用一個針對波長選擇的數(shù)字微鏡器件（DMD）和單點探測器取代了傳統(tǒng)線性陣列探測器。通過按序打開與特定波長光相對應(yīng)的一組鏡列，對應(yīng)光線被指向探測器，并被捕獲。通過掃描DMD上的一組鏡列，可以計算出吸收光譜。
近紅外（NIR）光譜分析內(nèi)的DLP技術(shù)可提供以下優(yōu)勢：
• 與使用具有極小像素的線性陣列探測器相比，使用更大的單點1毫米探測器能實現(xiàn)更高性能。
• 使用單元探測器和低成本光學(xué)器件能幫助實現(xiàn)更低的系統(tǒng)成本。高分辨率DMD使得定制圖形能夠補償每一個單獨系統(tǒng)的光學(xué)失真。
• 更大信號的捕獲不僅得益于DMD相比傳統(tǒng)技術(shù)更大的光展量（etendue），而且也受益于其快速、靈活、以及可編程的顯示模式及光譜濾波器設(shè)計。
• 借助可編程顯示模式，DLP分光計能夠：
o 通過控制一個鏡列中的像素數(shù)量來改變到達探測器的光的強度。
o 通過控制鏡列的寬度來改變系統(tǒng)的分辨率。
o 通過使用一組Hadamard圖形完成在一個圖形內(nèi)捕捉多個波長的光。然后，單獨的波長數(shù)據(jù)可通過解碼獲取。每個模式內(nèi)打開DMD像素數(shù)量的50%，從而將比上面提到的列掃描方式獲取的更強的信號引至探測器。
o 使用定制光譜濾波器來選擇需要的特定波長。
目前，DLPNIRscan Nano EVM軟件支持可變分辨率和Hadamard圖形。暫不支持可變強度和定制光譜濾波器。
在以下這幅圖片中，你可以看到DLPNIRscan Nano EVM的主要組件：
拿掉光引擎罩子后，可以看到DMD和探測器電路板：
現(xiàn)在，如果我們拿掉反射式模塊，你可以看到狹縫：
現(xiàn)在，我們已經(jīng)可以對這個器件“一覽無余”了，讓我們來看一看它是如何對光進行操縱的。
從樣本上反射回的光被采集鏡頭所搜集，并且通過輸入狹縫聚焦在光引擎上。所選擇的狹縫尺寸能夠平衡波長分辨率和分光計的信噪比（SNR）。這個分光計使用一個長寬分別為1.69毫米 x 25微米的狹縫。通過狹縫的光在第一組鏡頭上校準，通過一個885納米長的波通濾波器，然后打在一個反射光柵上。這個與聚焦透鏡組合在一起的光柵將光源色散為構(gòu)成它的連續(xù)波長（多色光線）。聚焦透鏡將狹縫圖像展開在DLP2010NIRDMD上。這個狹縫圖像的不同波長水平分布在DLP2010NIRDMD上。光學(xué)系統(tǒng)將900納米的波長成像在DMD的一端上，將1700納米的波長成像在另一端上，而在中間按順序散開所有其它波長。
今天我們找了個借口把這個器件拆開來仔細地看了看。如需獲得與DLPNIRscan Nano EVM有關(guān)的更多信息，請參考DLP NIRscan Nano用戶指南。
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